佛教造像的成形工藝視材質(zhì)而定，表面上的紋飾也一樣，木石類(lèi)的紋飾采雕刻工法，陶瓷類(lèi)的紋飾采模印工法，泥質(zhì)類(lèi)的紋飾用捏塑工法，本文礙于篇幅所限，選擇石雕造像為例，從鏤空、線刻、淺浮雕、高浮雕及高淺浮雕并用等角度，說(shuō)明它們的成紋方式。
一、鏤空技法
鏤空是將紋飾以外的地子去除，僅保留紋飾的做法，此一工法在玉石工藝中使用良久，也被佛雕工匠用來(lái)制作佛像。
例如圖一為北齊的雙半跏思惟菩薩像，此碑有圓拱形的樹(shù)形背光，龕內(nèi)雕制二尊思惟菩薩，單手觸頰、單腿盤(pán)起、半跏并坐，旁邊侍立二對(duì)菩薩和弟子。龕上還有坐佛、弟子及飛天，飛天手執(zhí)華繩，裙帶飛揚(yáng)。龕下以香爐供養(yǎng)，威猛的獅子和金剛力士護(hù)持道場(chǎng)。
主尊雙菩薩和脅侍菩薩與弟子身旁皆透雕成空，龕柱和龕楣采多層鏤空法透雕為畫(huà)面中的前景，二樹(shù)相連所形成的背光則是后景，龕上的坐佛、弟子、飛天及華繩也用多層鏤空法透雕為凌空狀，立體感極強(qiáng)。
類(lèi)似的鏤空技法亦可見(jiàn)于河北地區(qū)所出土的北朝佛像中，是此一地區(qū)、此段時(shí)期的造像特色，如河北鄴城出土的半跏思惟菩薩像與彌勒佛坐像皆可作為對(duì)照的參考。
二、線刻技法
線刻技法是以刀具雕刻的陰線紋組成紋飾，此一方法傳承已久，用在佛教造像中別有一番風(fēng)味。
例如圖二為明代的觀音菩薩碑像，此碑下半部已經(jīng)殘佚，表面可見(jiàn)明代萬(wàn)歷年的年款及崇禎時(shí)期所刻的《心經(jīng)》文字，碑體中間為觀世音菩薩，菩薩頭戴花鬘寶冠，冠上覆蓋頭巾，身上穿著寬松的衣衫，胸前佩掛花形裝飾，雙手交迭于腹前，神情端莊溫婉。
菩薩的整體造型皆以較粗的陰刻線紋構(gòu)成，臉部、頸部及雙手則以剔地法形成突起的線條，可以強(qiáng)化五官和手部的表現(xiàn)，但是花鬘寶冠和纖細(xì)如絲的頭發(fā)，以及衣服上的紋理，都是用陰刻細(xì)線紋所完成的。
此種陰刻技法使佛教造像的紋飾形成平實(shí)的畫(huà)面，猶如用筆繪畫(huà)一般的流暢自然，風(fēng)格樸實(shí)而有韻味，亦可見(jiàn)于其他考古出土物或公私收藏的造像碑上。
三、淺浮雕法
淺浮雕法是將紋飾以外的地子稍為磨低，俗稱(chēng)剔地、減地或去地，使紋飾微微突起的方法，也是佛教造像常見(jiàn)的成紋工藝。
例如圖三為北魏時(shí)期的造像碑殘件，此塊殘件是造像碑的上半部，表面現(xiàn)存原主龕的火焰紋龕頂，龕頂上面環(huán)列一排伎樂(lè)天，拿著各式樂(lè)器演奏，其上為釋迦和多寶二佛并坐像，周邊侍立脅侍菩薩和傾聽(tīng)佛法的比丘，上方則有飛天手持寶物供養(yǎng)。
所有紋飾周邊皆磨去一層石料作為地子，使紋飾微微突起于表面上，再用陰刻細(xì)線紋標(biāo)示五官和衣著紋理，雖然磨去的石料不多，但是紋飾與地子之間的些微落差仍能發(fā)揮突顯紋飾的效果。
類(lèi)似的淺浮雕技法亦可見(jiàn)于龍門(mén)石窟古陽(yáng)洞北壁中層第二龕基部的供養(yǎng)人行列上，微微突起的人像與陰刻細(xì)線紋搭配，呈現(xiàn)獨(dú)特的韻味。
四、高浮雕法
高浮雕法是將紋飾周邊的地子磨得較低，使紋飾高高突起于器表上的方法，可說(shuō)是佛教造像最常見(jiàn)的制作工藝。
例如圖四為唐代的大理石臺(tái)座， 此器呈圓柱狀，中間向內(nèi)收腰，底部朝外擴(kuò)展，形成上小下大的造型。座身順著器型的寬窄變化切琢為階梯狀，表面以規(guī)律性的圓珠紋和蓮瓣紋作裝飾，收腰處開(kāi)八個(gè)圓拱形的小龕，龕內(nèi)各有一尊神王像。
神王的造型各不相同，依序稱(chēng)為珠神王、獅神王、河神王、鳥(niǎo)神王、龍神王、火神王、風(fēng)神王及樹(shù)神王，每尊神王周邊皆磨去比較多的地子，使其高高突起，形象極為立體。
此類(lèi)高浮雕法普遍見(jiàn)于石質(zhì)造像碑與依山鑿建的石窟寺中，如美國(guó)波士頓美術(shù)館所收藏的唐代四大天王組像，運(yùn)用高浮雕展現(xiàn)天王雄健威武的氣勢(shì)，可以作為對(duì)照的參考。
五、高淺浮雕并用法
除了上述四種技法之外，還有將高浮雕和淺浮雕二種技法混合并用的方式，也常見(jiàn)于石窟寺院及造像碑上。
例如圖五為北齊的造像碑，此碑的內(nèi)容豐富，正背兩面都分為碑額和碑身，圖中所示為正面碑身，是全器的主龕，龕內(nèi)有二株寶樹(shù)相連，樹(shù)下為佛七尊像，主尊佛結(jié)跏趺坐于須彌座上，兩旁侍立雙弟子、雙辟支佛及雙菩薩，寶樹(shù)兩側(cè)各有一身飛天，以凌空飛翔的姿態(tài)增添動(dòng)感。
所有紋飾的減地程度不同，主尊佛和須彌座去地最深，六位脅侍弧形排列，去地程度由內(nèi)向外逐次遞減，上方寶樹(shù)和飛天去地最淺，此種減地上的差異可在有限的空間內(nèi)呈現(xiàn)出前景、中景及后景，讓紋飾富有層次。
鏤空、線刻和浮雕，各有不同的效果，從中可見(jiàn)古代工匠依造像需求所做的巧思與變化。下期將從形的角度，介紹佛教造像的特色。
